研究发现：坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱在芯片工艺中的用途

李白二号

坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱的用途


坚膜烘箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。其的主要作用是除去光刻胶中剩余的溶剂,增强光刻胶对硅片表面的附着力,同时提高光刻胶在刻蚀和离子注人过程中的抗蚀性和保护能力。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。


坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱技术性能：


通过坚膜,光刻胶的附着力会得到提高,这是由于除掉了光刻胶中的溶剂,同时也是热融效应作用的结果,因为热融效应可以使光刻胶与硅片之间的接触面积达到比较大。较高的坚膜温度可使坚膜后光刻胶中的溶剂含量更少,但增加了去胶时的困难。


温度范围：RT～250℃；均匀度：±2%℃;


温度波动度：±05℃（空载）温控精度：±01℃;


洁净度：C100;


计时范围：99H99M；


气体氛围：N2；


内部尺寸（）：


450×450×450


500×500×550


600×700×800（可定制）










由于这些理由，我觉得HMDS烘箱的情况还比较乐观，市场还处于一片蓝海的阶段。上海隽思实验仪器有限公司坐落于中国上海，奉贤区柘林镇工业园区。http://www.junsicn.com/